[G] 溶融・凝固プロセス 高温プロセス(1)

[345] 溶融LiF-KF-KCl中のシリコンイオンの拡散係数測定

*真壁 太一¹、盧 鑫、竹田 修、朱 鴻民 (1. 東北大工（院生）)

キーワード：シリコンイオン、溶融塩、拡散係数、電気化学

本研究ではスラグを構成するイオンの拡散係数を測定、検討を行い、シリコンが溶融アルカリハライド中のイオンとして通常の水準にあり、溶媒による拘束をあまり強く受けていないことを確認した。