日本金属学会2020年秋期(第167回)講演大会

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一般講演

9.Electric/Electronic/Optical Materials » Electric/Electronic/Optical Materials

[G] Electric/Electronic/Optical Materials

Fri. Sep 18, 2020 1:00 PM - 4:55 PM Rm. E (ZoomRm.E)

Chair:Hidekazu Tanaka(Osaka University), Fumitaro Ishikawa(Ehime University) Sub Chairman (assistant):

1:30 PM - 1:45 PM

[3] Relation between resistance to oxidation and addition concentration of Ge in magnetite thin films

*Seishi ABE1 (1. Research Institute for Electromagnetic Materials)

Keywords:薄膜、鉄酸化物、相転移、耐酸化性、無機材料

マグネタイト(Fe3O4)薄膜の耐酸化性とGe濃度および大気中熱処理時間との関係について検討を行った。その結果、磁化が最大となるGe濃度(2.5at.%)において最も耐酸化性が高まることが明らかになった。

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