日本金属学会2021年秋期(第169回)講演大会

講演情報

一般講演

9.電気・磁気 関連材料 » 電気・電子・光関連材料

[G] 電気・電子・光関連材料

2021年9月15日(水) 13:00 〜 16:00 L会場 (ZoomL会場)

座長:田中 秀和(大阪大学)、須藤 祐司(東北大学)、田邉 匡生(芝浦工業大学)

14:45 〜 15:00

[268] スパッタリング法によるTi添加α-Fe2O3薄膜の作製

*阿部 世嗣1 (1. 電磁研)

キーワード:無機材料、薄膜、鉄酸化物、ドーピング、電気抵抗率

比較的低濃度のTiを添加した表記の薄膜について検討を行った。その結果、無添加の電気抵抗率は測定範囲を超える高抵抗であるのに対し、Ti濃度の増加と共に減少する傾向を示す。

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