[S6] S6 ナノ・マイクロスペーステイラリングVI

[S6.8] 二重イオン照射によるSiO₂内Ag-Ni複合粒子合成における微細構造の照射順序効果

*山田 智子¹、岩瀬 彰宏^2,3、松井 利之²、前川 雅樹⁴、河裾 厚男⁴、堀 史説² (1. 大阪府大（院生）、2. 大阪府大、3. 若狭湾エネ研、4. 量研機構高崎)

キーワード：複合ナノ粒子、イオン照射、SiO₂アモルファス、照射順序

SiO₂へのAg及びNiイオンの照射順序を入れ替えて生成した粒子の微細構造解析を進めており，照射順序による違いとそれぞれの照射順での照射量に対する構造体の変化について解析した結果について報告する．