[G] スピントロニクス・ナノ磁性材料／磁気機能材料

[284] 脱窒素法によるバリアントフリーL1₀-FeNi(110)薄膜の作製と磁気特性の評価

*伊藤 啓太^1,2、市村 匠³、西尾 隆宏⁴、藏 裕彰⁴、柳原 英人⁵、高梨 弘毅^1,2,6 (1. 東北大金研、2. 東北大CSRN、3. 東北大工、4. 株式会社デンソー、5. 筑波大物工、6. 東北大CSIS)

キーワード：L1₀-FeNi、FeNiN

c軸が膜面内の一方向に揃ったバリアントフリーなエピタキシャルFeNiN(110)薄膜を作製した。脱窒素熱処理を行うことにより、バリアントフリーL1₀-FeNi(110)薄膜を作製し、一軸磁気異方性エネルギーを評価した。