日本金属学会2022年春期(第170回)講演大会

講演情報

一般講演

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[G] 分析・解析・評価

2022年3月15日(火) 13:00 〜 16:20 A会場

座長:井 誠一郎(物質・材料研究機構)、佐藤 和久(大阪大学)、赤嶺 大志(九州大学)

13:45 〜 14:00

[3] 電子照射によるPt/SiOx界面でのα-Pt2Si形成

*佐藤 和久1、森 博太郎1 (1. 阪大電顕センター)

キーワード:電子照射、電子励起、界面反応、化学結合、原子移動

電子励起を利用したPt/a-SiOx界面でのα-Pt2Si形成に及ぼす界面ならびに電子照射温度の影響について検討した。界面領域が多い試料ほどシリサイド形成反応が速いこと、90Kでも反応が進行することが明らかとなった。

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