日本金属学会2022年春期(第170回)講演大会

講演情報

一般講演

6.材料プロセシング » 材料プロセシング

[G] 溶融・凝固プロセス 高温プロセス

2022年3月17日(木) 13:00 〜 17:20 B会場

座長:森戸 春彦(東北大学)、小林 能直(東京工業大学)、中本 将嗣(大阪大学)

14:40 〜 14:55

[81] Crystallographic orientation and growth velocity anisotropy in melt growth of silicon

*Shashank Shekhar Mishra1, Lu-Chung Chuang1, Nozawa Jun1, Kensaku Maeda1, Haruhiko Morito1, Kozo Fujiwara1 (1. Institute for Materials Research, Tohoku University)

キーワード:Crystal growth、Interface、Silicon、Crystallographic orientation

It is well-known fact that crystal growth is highly anisotropic. This work experimentally verifies the growth velocity anisotropy in melt growth of silicon.

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