[P] P21~P26

[P23] 分子動力学法による炭素硬質系皮膜の形成過程における残留応力発生機構の解明

*亀谷 憲嗣¹、中村 守正²、屋代 如月³、高木 知弘⁴ (1. 京都工繊大 (院生)、2. 同志社大 理工学部、3. 岐阜大 工学部、4. 京都工繊大　機械工学系)

キーワード：ダイヤモンドライクカーボン、薄膜形成、残留応力、分子動力学法、シミュレーション

DLC膜は，膜内部に数GPaもの高い残留応力を有するため，はく離しやすいという問題を抱えている．本研究では，DLC 膜形成過程の分子動力学シミュレーションを行い，膜内部の残留応力の発生メカニズムの解明を試みた．