日本金属学会2023年秋期(第173回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

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[P] P153~P177

2023年9月19日(火) 15:00 〜 16:30 とやま自遊館1階ホール (とやま自遊館1階ホール)

15:00 〜 16:30

[P172] スパッタリング法により作製したScxGa1-xN過飽和固溶体のXANES解析

*池本 勇1、平田 研二2、瀬戸山 寛之3、大曲 新矢2、Angaraini Sri Ayu2、秋山 守人2、山田 浩志1,2、上原 雅人1,2 (1. 九大総理工(院生)、2. 産総研、3. 九州シンクロトロン光研究センター)

キーワード:誘電体、XANES、第一原理計算

配位構造と圧電性能には関係があると考えられている。本研究では、ScやGa周辺の対称性の変化を解明するために、ScGaN薄膜に形成する可能性のある3つの結晶構造モデルの計算スペクトルと実験結果を比較し、考察した。

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