[P] P199~P215

[P203] Effect of Substrate Temperature on Microstructure of TiO₂ Films Deposited by Glancing-angle Sputtering

*CHEN YUSOU¹, INOUE YASUSHI², TAKAI OSAMU³ (1. Chiba Inst. Technol., 2. Chiba Inst. Technol., 3. Kanto Gakuin Univ.)

Keywords:TiO₂薄膜、斜入射スパッタリング、基板加熱、光触媒、離散的柱状構造

光触媒反応は表面で起こり，TiO₂薄膜の離散的柱状構造を実現できれば，優れた光触媒特性を発揮できる．室温で成膜されたTiO₂薄膜は離散的柱状構造が形成されにくい．基板加熱でTiO₂薄膜の離散的柱状構造を作製した．