日本金属学会2023年秋期(第173回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

5.材料化学 » 材料化学

[P] P199~P215

2023年9月19日(火) 15:00 〜 16:30 とやま自遊館1階ホール (とやま自遊館1階ホール)

15:00 〜 16:30

[P203] 斜入射スパッタリング法により作製したTiO2薄膜の微細構造に対する基板温度の影響

*陳 宇聡1、井上 泰志2、高井 治3 (1. 千葉工大(院生)、2. 千葉工大(教授)、3. 関東学院大(教授))

キーワード:TiO2薄膜、斜入射スパッタリング、基板加熱、光触媒、離散的柱状構造

光触媒反応は表面で起こり,TiO2薄膜の離散的柱状構造を実現できれば,優れた光触媒特性を発揮できる.室温で成膜されたTiO2薄膜は離散的柱状構造が形成されにくい.基板加熱でTiO2薄膜の離散的柱状構造を作製した.

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