日本金属学会2023年秋期(第173回)講演大会

講演情報

公募シンポジウム講演

[S] S5.Additive Manufacturingの材料科学II: 超温度場材料創成学(3)

2023年9月22日(金) 09:00 〜 12:05 I会場 (工学部総合教育研究棟2階28講義室)

座長:戸田 佳明(国立研究開発法人 物質・材料研究機構)、松垣 あいら(大阪大学)

10:50 〜 11:30

[S5.37] [基調講演]超温度場CVDを利用した高速エピタキシャル成長と秩序構造の形成

*伊藤 暁彦1 (1. 横浜国大環情)

キーワード:化学気相析出、セラミックス共晶系、蛍光体、YAG、アルミナ

化学気相析出過程に高強度レーザーを照射して活性な結晶成長の場を創り出すことで、セラミックス単結晶厚膜の高速エピタキシャル成長や、気相から無機固体結晶の秩序構造の形成が起こることを示した。

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