15:10 〜 15:25
[341] 分子動力学法を用いたスパッタリング収率の結晶方位依存性の評価
キーワード:スパッタリング、収率、結晶方位依存性、分子動力学法
1 keV ArをNiに入射した際のスパッタリング収率を分子動力学法により計算し、その結晶方位依存性を求めた。実験結果と比較した結果、各方位での実験値からの差は1割程度となり、
チャネリングの影響を再現した。
チャネリングの影響を再現した。
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