[G] Analysis/Characterization/Evaluation

[217] Stacking Faults and Intercalants in (Ta_1-xT_ix)Se₂ Revealed by Cross-Sectional Scanning Transmission Electron Microscopy

*Kazuhisa Sato¹, Toshiya Matsushita¹ (1. Research Center for UHVEM, Osaka Univ.)

Keywords:遷移金属ダイカルコゲナイド、vdWギャップ、断面観察、積層欠陥、インターカラント

Ti濃度の異なる(Ta1-xTix)Se2を作製し、断面STEM観察を行った。vdWギャップにインターカラントが分布していること、Ti添加によりTaサイトの像強度が低下し、層間の輝点の強度が増加すること、などが明らかとなった。