[P] P92~P99

[P99] Thermal stability of amorphous TM-Ge-Te selector thin films

*keisuke hamano^1,2, eisuke takeuchi¹, shogo hatayama², yuta saito³, paul fons⁴ (1. Keio Univ., 2. AIST, 3. Tohoku Univ., 4. Keio Univ.)

Keywords:相変化材料、アモルファス、遷移金属、OTS

次世代の不揮発性メモリとして注目される相変化メモリに使われるセレクタに関して、遷移金属添加により材料の耐熱性向上を目指す。