日本金属学会2024年春期(第174回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

5.材料化学 » 材料化学

[P] P39~P46

2024年3月12日(火) 14:00 〜 15:30 図書館棟3階ホワイエ

14:00 〜 15:30

[P39] 斜入射反応性蒸着法による離散的ナノ柱状構造化InN薄膜堆積における空隙制御法の探索

*渡邉 将騎1、井上 泰志1、西尾 舞雪2、高井 治1 (1. 千葉工大、2. 関東学院大)

キーワード:InN薄膜、斜入射堆積法、空隙制御、蒸着

窒化インジウムはエレクトロクロミック(EC)材料である.他のEC材料と比較して色変化の速度が速い.しかしその速度を決定する要因はわかっていない.本研究では,様々な方法をで空隙を制御する方法を探索した.

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