[P] P59~P63

[P60] Fabrication of nitrogen-doped TiO₂ films by reactive sputtering and evaluation of their photocatalytic activity

*Sunyong Shim¹, Kyosuke Ueda², Takayuki Narushima² (1. Graduate School of Engineering, Tohoku Univ. (M), 2. Graduate School of Engineering, Tohoku Univ.)

Keywords:反応性スパッタリング法、TiO₂膜、光触媒、バンドギャップ、可視光応答化

アナターゼ優勢型窒素添加TiO₂膜を作製した。O₂分率の低下およびN₂分率の増加によりバンドギャップが減少した。可視光照射下において、窒素添加TiO₂膜は水接触角が10°付近まで減少し、可視光応答の可能性を示した。