日本金属学会2024年春期(第174回)講演大会

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公募シンポジウム講演

[S5] S5.Chemistry on Material Surfaces I: The-state-of-the-artresearch in plating, aqueous and high temperature corrosion,and photocatalysis(1)

Wed. Mar 13, 2024 1:00 PM - 4:35 PM Rm. A (Rm.406, 4th Flr.,Lecture Hall Blg.)

Chair:Osamu Takeda

3:25 PM - 3:45 PM

[S5.6] Hydrogen Codeposition into Electroless Copper Films and Its Influence on Film Structure

*Shinji YAE1, Kazuma HAYASHI2, Ryuji YAMASAKI3, Kosuke TOHDA4, Naoki FUKUMURO1 (1. Univ. of Hyogo, 2. Univ. of Hyogo (M), 3. Univ. of Hyogo (B), 4. Univ. of Hyogo (M, Present: KIOXIA))

Keywords:Electrolessly Deposited Copper Films、Printed Circuit Boards、Thermal Desorption Spectroscopy、Vacncy-Hydrogen Clusters、Nanovoids

無電解銅めっきは、プリント配線板などの回路形成の重要プロセスである。本研究では、めっき膜に共析した水素の存在状態と量を昇温ガス脱離分析によって解析し、膜の構造および物性に及ぼす影響を調べた。

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