日本金属学会2024年春期(第174回)講演大会

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一般講演

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[G] 分析・解析・評価

2024年3月15日(金) 13:00 〜 16:00 C会場 (講義棟5階504)

座長:宇部 卓司(JFEテクノリサーチ)、山本 知一(九州大学)

14:30 〜 14:45

[55] 溶質原子を介したアモルファスPd-Si合金薄膜の結晶化

*佐藤 和久1、森 博太郎1 (1. 阪大電顕センター)

キーワード:電子照射、電子励起、アモルファス、結晶化、溶質原子

非晶質(a-)Pd-19at%Si合金薄膜をa-SiOx薄膜で挟んだ積層膜を作製し、75keV電子照射により結晶化させたところ、Pd-Si中のSi濃度が顕著に増加した。a-SiOxの解離により生成したSiが結晶化を誘起したと考えられる。

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