放射線効果 若手

[2612-15-02] TRafプロセスを用いた反射防止膜の作製

〇遠藤 陽奈¹、大島 明博²、鷲尾 方一¹ (1. 早稲田大学・理工学術院・総研、2. 大阪大学・院工)

私たちは静電型低エネルギー電子線加速器 Curetron® (NHV Corp.) を用いて、電子線ナノインプリント技術である TRaf プロセスによる架橋 PTFE 微細構造体の作製を行ってきた。本研究では電子線リソグラフィー法によりナノドットパターンを持つ、Si モールドの 設計・製作し、モールドを用いて転写を行うことで、架橋 PTFE を素材とした反射防止構造膜の作製を試みた。