5:00 PM - 5:15 PM
[2612-15-02] TRafプロセスを用いた反射防止膜の作製
私たちは静電型低エネルギー電子線加速器 Curetron® (NHV Corp.) を用いて、電子線ナノインプリント技術である TRaf プロセスによる架橋 PTFE 微細構造体の作製を行ってきた。本研究では電子線リソグラフィー法によりナノドットパターンを持つ、Si モールドの 設計・製作し、モールドを用いて転写を行うことで、架橋 PTFE を素材とした反射防止構造膜の作製を試みた。
wakate
Thu. Jul 8, 2021 4:45 PM - 5:45 PM 第3会場
座長:岡 壽崇(原子力機構)
5:00 PM - 5:15 PM