日本分析化学会第72年会

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(口頭講演)

17:界面分析

界面分析 1

Fri. Sep 15, 2023 1:15 PM - 2:00 PM B3 room (Kumamoto-jo hall)

座長:安達 健太(山口大学大学院創成科学研究科)

1:15 PM - 1:30 PM

[3B3-101] 低水分電解研磨法がNb表面の水素吸蔵へ及ぼす影響

○後藤 剛喜1 (1. 高エネルギー加速器研究機構)

Keywords:Nb表面、水素吸蔵、電解研磨、弾性反跳粒子検出分析法 (ERDA)、超伝導加速器

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