2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 13:00 〜 18:30 B5 (TC2 2F-201)

16:45 〜 17:00

[17p-B5-15] Al2O3膜挿入によるリーク電流低減の検証

黒柳洋真,中谷友哉,岩崎好孝,上野智雄 (東京農工大・工)

キーワード:Ge,Al2O3,HfO2