PDF ダウンロード スケジュール 4 いいね! 0 09:30 〜 11:30 [18a-P4-36] 柱状欠陥を導入したBi,Pb2223 薄膜の臨界電流密度 ○藤吉孝則1,末吉哲郎1,吉村兆貢1,桑原遼1,土屋啓輔1,松本明善2,北口仁2 (熊大工1,物材機構2) キーワード:Bi2223薄膜,臨界電柱密度,柱状欠陥