^○山田浩之^1,2，Philippe Altuntas²，Arnaud Crassous²，Stéphane Fusil²，Eric Jacquet²，Javier Villegas²，Karim Bouzehouane²，Manuel Bibes²，Agn?s Barth?l?my² (産総研¹，CNRS-Thales²)

[27p-F2-8] (La,Pr,Ca)MnO3ナノウォール細線における超巨大磁気抵抗効果と電子相の挙動解明 (3:15 PM ～ 3:30 PM)

^○藤原康司，服部梓，藤原宏平，田中秀和 (阪大産研)

[27p-F2-8.1] 休憩(15分)

[27p-F2-9] Sr₃Al₂O₆バッファ層を用いたNd_0.5Sr_0.5MnO₃薄膜の格子歪み制御 (3:45 PM ～ 4:00 PM)

^○疋田育之¹，呂頔²，佐藤弘樹^1,3，ボンジュキム²，矢嶋赳彬⁴，クリストファーベル¹，ハロルドファン^1,2 (SLAC国立加速器研究所¹，スタンフォード大²，東大新領域³，東大院工⁴)

[27p-F2-10] 分光エリプソメトリーを用いたPr_1-xCa_xMnO₃薄膜の光学的解析 (4:00 PM ～ 4:15 PM)

^○山田昌樹，中村敏浩 (京都大工)

[27p-F2-11] VO₂における電界誘起金属相の結晶構造評価 (4:15 PM ～ 4:30 PM)

^○中野匡規^1,2，奥山大輔¹，竹下聡史³，大隅寛幸³，Samuel Tardif³，渋谷圭介^1,4，畑野敬史¹，小野新平^1,5，湯本博勝⁶，小山貴久⁶，大橋治彦⁶，高田昌樹³，川崎雅司^1,7，田口康二郎¹，有馬孝尚^2,3，岩佐義宏^1,7，十倉好紀^1,7 (理研CERG/CMRG¹，東大新領域²，理研SPring-8³，産総研⁴，電中研⁵，JASRI⁶，東大工⁷)

[27p-F2-12] Pt/NiO/Pt積層構造におけるフォーミング特性分布 (4:30 PM ～ 4:45 PM)

^○西佑介，岩田達哉，木本恒暢 (京大院工)

[27p-F2-13] HfO₂-CB-RAM のフィラメント形成における水の役割 (4:45 PM ～ 5:00 PM)

^○長谷川祥¹，木下健太郎^1,2，鶴田茂之¹，岸田悟^1,2，榎本優太郎¹ (鳥取大工¹，TEDREC²)

[27p-F2-14] ReRAM用Ta₂O₅/TaO_x積層膜のスパッタ量産技術の開発 (5:00 PM ～ 5:15 PM)

^○福田夏樹，福寿和紀，西岡浩，鄒弘綱 (アルバック半電研)

[27p-F2-15] Ti 電極MIMダイオードにおけるSiO_x/TiO₂多重積層の抵抗変化特性評価 (5:15 PM ～ 5:30 PM)

^○（M2）福嶋太紀¹，大田晃生²，牧原克典¹，宮崎誠一¹ (名大工¹，広大先端研²)

セッション情報

[27p-F2-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス