[27p-PB4-1~16] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月27日(水) 13:30 〜 15:30 PB4 (第二体育館)

ポスター掲示時間13:30〜15:30(PB会場)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[27p-PB4-1] Agを用いたサーファクタント・クリスタライゼーション法によるゲルマニウム薄膜の結晶化 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○三芝直也¹，田中勝之¹，稲瀬陽介¹，三浦寛之¹，神子公男²，弓野健太郎¹ (芝浦工業大¹，東大生産技術研²)

^○金澤徹¹，稲瀬陽介¹，三浦寛之¹，神子公男²，弓野健太郎¹ (芝浦工大工¹，東大生研²)

^○飯島裕貴¹，高柳淳¹，武江敏範¹，神子公男²，弓野健太郎¹ (芝浦工大工¹，東大生研²)

^○（B）山野真幸¹，黒木伸一郎¹，佐藤旦¹，小谷光司² (広島大ナノデバイス¹，東北大工²)

^○三浦真^1,2，藤方潤一^1,2，野口将高^1,2，堀川剛^1,3，荒川泰彦^1,4 (ＰＥＣＳＴ¹，ＰＥＴＲＡ²，産総研³，東大生研⁴)

^○渡辺直也¹，宮崎匠²，青柳昌宏¹，吉川和博^3,4 (産総研¹，プレテックAT²，アプリシア³，東北大院工⁴)

^○森本雅史，梁剣波，宮崎達也，西田将太，重川直輝 (大阪市立大工)

^○田湖次広^1,2，市野邦男²，木村真弓¹，松井篤史¹ (林純薬工業¹，鳥取大院工²)

山口裕貴，森田竜平，藤田悠佑，宮谷友彰，笠川知洋，松田時宜，^○木村睦 (龍谷大理工)

^○木村睦，飯室恵紀，佐川祐樹，松田時宜 (龍谷大理工)

^○清水康雄¹，高見澤悠¹，井上耕治¹，矢野史子^1,2，永井康介¹ (東北大金研¹，東京都市大²)

^○小池正浩，上牟田雄一，手塚勉 (産総研GNC)

^○秋田洸平¹，宮田陽平¹，寺山一真¹，武井優典¹，筒井一生¹，野平博司²，角嶋邦之¹，アヘメトパールハット¹，服部健雄¹，岩井洋¹ (東工大¹，東京都市大²)

^○吉原亮¹，田村雄太¹，角嶋邦之²，アヘメトパールハット¹，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，筒井一生²，名取研二¹，服部健雄¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

^○（M1）坪松悟史^1,2，村田晃一^1,2，古谷野有²，日塔光一¹，三木一司^1,2 (物材機構¹，筑波大院数物²)

^○（P）小濱和之^1,2，飯島智彦¹，林田美咲¹，小川真一¹ (産総研¹，学振特別研究員²)