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一般セッション(口頭講演)

03．光 » 3.4 計測光学

[28a-A2-1~9] 3.4 計測光学

2013年3月28日(木) 09:30 〜 12:00 A2 (K1号館 B1-B102)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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[28a-A2-1] シリカ微小球共振器を用いた超純水イオン含有率評価の予備的検討 (9:30 AM ～ 9:45 AM)

^○西村治郎，田邉孝純 (慶大理工)

[28a-A2-2] 3 次元干渉分光イメージングにおける奥行き分解能の評価 (9:45 AM ～ 10:00 AM)

^○（D）Sirawit Teeranutranont¹，青山大樹²，鈴木文子²，吉森久¹ (岩大院工¹，岩手大²)

[28a-A2-3] 閉ループダブルシアリング干渉法による高精度表面形状計測 (10:00 AM ～ 10:15 AM)

佐藤大祐，^○（D）橋本哲弥，小原正樹，シラヴィットティーラヌタラーノン，吉森久 (岩大院工)

[28a-A2-4] ディジタルホログラフィック分光立体映像法における4次元インパルス応答関数の厳密解 (10:15 AM ～ 10:30 AM)

^○小原正樹¹，斉藤崇浩²，澤田圭菜²，吉森久¹ (岩大院工¹，岩手大²)

[28a-A2-5] 半導体レーザーの強度変調に不感なカレのアルゴリズムの検討 (10:30 AM ～ 10:45 AM)

成田賢司，細井遼太郎，中谷努，^○小野寺理文 (職業大・電子情報)

[28a-A2-5.1] 休憩(15分)

[28a-A2-6] 多波長干渉法における薄膜形状測定のための信号処理方法 (11:00 AM ～ 11:15 AM)

^○佐々木修己，崔森悦，中野芳彦，鈴木孝昌 (新潟大工)

[28a-A2-7] 赤色LED-OCTを用いた化粧剤塗膜特性の解析 (11:15 AM ～ 11:30 AM)

^○宮本汐里¹，次田哲也³，岩井俊昭² (東京農工大工¹，東京農工大BASE²，花王ビューティーケア研究センター³)

[28a-A2-8] デジタルホログラフィック顕微鏡における3次元物体形状の結像評価モデルの構築 (11:30 AM ～ 11:45 AM)

^○波田地洋隆¹，齊藤俊² (山口大院¹，山口大院²)

[28a-A2-9] 軟X線顕微鏡の光軸調整用シングルパス点回折干渉計の開発 (11:45 AM ～ 12:00 AM)

^○豊田光紀，内田健太郎，柳原美広 (東北大多元研)