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一般セッション(口頭講演)

06．薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[28a-A6-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

2013年3月28日(木) 09:00 〜 11:45 A6 (K1号館 3F-305)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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[28a-A6-1] △軟X線照射による水素化DLC膜の改質過程 (9:00 AM ～ 9:15 AM)

^○今井亮，新部正人，神田一浩 (兵庫県立大高度研)

[28a-A6-2] 軟X線を照射したアモルファス水素化炭素膜の屈折率と消光係数 (9:15 AM ～ 9:30 AM)

^○吉岡久志¹，今井亮²，神田一浩²，大塩茂夫¹，小松啓志¹，戸田育民¹，村松寛之¹，齋藤秀俊¹ (長岡技大(院)¹，兵庫県大²)

[28a-A6-3] DLC膜の種類と抵抗率 (9:30 AM ～ 9:45 AM)

^○吉岡久志，大塩茂夫，戸田育民，村松寛之，齋藤秀俊 (長岡技大(院))

[28a-A6-4] ベンゼン由来アモルファス炭素膜の合成過程における混入水の膜構造への影響 (9:45 AM ～ 10:00 AM)

^○周小龍，戸田育民，大塩茂夫，村松寛之，齋藤秀俊 (長岡技大)

[28a-A6-5] ドライ雰囲気下における振動摩擦摩耗試験機によるDLC膜のはく離 (10:00 AM ～ 10:15 AM)

^○大花継頼¹，間野大樹¹，市村大貴²，中村挙子¹ (産総研¹，東京電機大²)

[28a-A6-5.1] 休憩(15分)

[28a-A6-6] △細孔底面への水素フリーDLC膜の成膜速度の向上 (10:30 AM ～ 10:45 AM)

^○森田悠介¹，田上英人¹，須田善行¹，滝川浩史¹，神谷雅男²，瀧真³，長谷川祐史³，辻信広³，サーレアブスアイリキ⁴ (豊橋技科大¹，伊藤光学工業²，オンワード技研³，日立ツール⁴)

[28a-A6-7] △Siウエハ上への水素フリーDLC膜の均一形成と微細パターン加工 (10:45 AM ～ 11:00 AM)

^○細尾倫成¹，田上英人¹，須田善行¹，滝川浩史¹，川島貴弘¹，柴田隆行¹，神谷雅男²，瀧真³，長谷川祐史³，サーレアブスアイリキ⁴，辻信弘³ (豊橋技科大¹，伊藤光学工業²，オンワード技研³，日立ツール⁴)

[28a-A6-8] 水素含有DLC(ta-C:Hおよびa-C:H)膜のTDS分析 (11:00 AM ～ 11:15 AM)

^○田上英人¹，角口公章¹，須田善行¹，滝川浩史¹，神谷雅男²，瀧真³，長谷川祐史³，辻信広³，サーレアブスアイリキ⁴ (豊橋技科大¹，伊藤光学工業²，オンワード技研³，日立ツール⁴)

[28a-A6-9] 細胞親和性の異なるDLC膜への酸素プラズマ処理を利用した表面改質 (11:15 AM ～ 11:30 AM)

^○（B）多田晴菜¹，木村洋裕¹，日比野麻衣¹，平塚傑工²，中森秀樹²，Alanazi Ali⁴，森山匠³，桜井正行³，斎藤秀俊⁵，深田直樹⁶，大越康晴¹，Nataliya Nabatova-Gabain³，平栗健二¹，福井康裕¹ (東京電機大¹，ナノテック²，堀場製作所³，キング・サウド大⁴，長岡技術科学大⁵，物質・材料研究機構⁶)

[28a-A6-10] 血液検査デバイス応用へ向けたDLC膜の血液適合性評価 (11:30 AM ～ 11:45 AM)

^○（B）柴圭祐¹，村田智史¹，水野潤²，尾関和秀³，大越康晴⁴，平栗健二¹，Alanazi Ali⁶，佐藤慶介⁵，深田直樹⁵，庄子習一² (電機大工¹，早大理工²，茨城大工³，電機大理工⁴，物材研⁵，キング･サウド大⁶)