[28a-G6-1~11] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月28日(木) 10:00 〜 12:45 G6 (B5号館 1F-2106)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[28a-G6-1] ｢講演奨励賞受賞記念講演｣（15分）
ヘリウムイオン顕微鏡を用いたタングステンピラーの作製および基板に与えるダメージの評価 (10:00 AM ～ 10:15 AM)

^○小濱和之^1,2，飯島智彦¹，林田美咲¹，小川真一¹ (産総研¹，学振特別研究員²)

^○林田美咲，飯島智彦，塚原雅宏，小川真一 (産総研)

^○入田亮一^1,2，三宅賢治^1,2，梅山規男²，ソマワンクアンプン^2,3，原史朗^2,3 (ピーエムティー¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

^○千葉貴史^1,2，寺田昌男^1,2，ソマワンクンプアン^2,3，池田伸一^2,3，谷島孝²，原史朗^2,3 (坂口電熱¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

^○前川仁^{1, 2}，ソマワンクンプアン^{1, 2}，原史朗^{1, 2} (産総研¹，ミニマルファブ技術研究組合²)

田口勇¹，三橋雅彦¹，松本伸雄²，^○加藤俊夫²，小田代健³，神埼礼子³ (神奈川県産業技術センター¹，ジ―クエスト²，アセイ工業³)

門目尭之，松村篤，東山剛士，大山翔平，松田時宜，^○木村睦 (龍谷大理工)

^○（M2）小林義崇，酒池耕平，中村将吾，赤澤宗樹，東清一郎 (広大院先端研)

^○前田辰郎¹，石井裕之¹，板谷太郎¹，Wipakorn Jevasuwan¹，安田哲二¹，市川磨²，秦雅彦² (産総研¹，住友化学²)

^○（PC）三枝栄子¹，前田辰郎¹，宮田典幸¹，安田哲二¹，前田敦彦¹，倉島優一¹，高木秀樹¹，青木健志²，山本武継²，菊池俊之³，市川磨²，長田剛規²，秦雅彦²，小川有人³，国井泰夫³ (産総研¹，住友化学²，日立国際電気³)

^○小田穣¹，入沢寿史¹，上牟田雄一¹，Wipakorn Jevasuwan¹，前田辰郎¹，市川磨²，手塚勉¹ (産総研¹，住化筑波研²)