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一般セッション(口頭講演)
13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術
[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術
2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:30 G6 (B5号館 1F-2106)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
○長坂将也1,永田晃基1,3,山口拓也1,小椋厚志1,陰地宏2,孫珍永2,広沢一郎2,渡部佳優4,廣田良浩4 (明治大理工1,高輝度光科学センター2,学振特別研究員DC3,東京エレクトロン4)
○岡田竜弥,屋宜佳佑,井村公彦,野口隆 (琉球大 工)
○久保田誠1,2,池田直樹1,2,鯉沼秀臣3,石垣隆正2,角谷正友1 (物材機構1,法政大2,東大新領域3)
○川嶋智仁,片岡淳司,薮原秀彦 (東芝生産技術センター)
○小笠原卓哉,伊高健治,神本正行,古屋康文,佐藤裕之,相馬拓也,佐藤洋平 (弘前大理工)
○須田隆太郎,伊藤光樹,小島明,白樫淳一,越田信義 (東京農工大院工)
○山本圭介1,3,光原昌寿2,西田稔2,王冬2,中島寛1 (九大産学連携センター1,九大総理工2,学振特別研究員3)
○小野貴寛1,大田晃生1,花房宏明1,村上秀樹1,東清一郎1,宮崎誠一2 (広大院先端研1,名大院工2)
○矢野史子1,2,高見澤悠1,清水康雄1,井上耕治1,永井康介1,国宗依信3,井上真雄3,西田彰男3,池田昌弘3 (東北大金研1,東京都市大2,ルネサスエレ3)
○望月一秀,Lien Mai,堀田將 (北陸先端大)
○(M1)上倉敬弘,林将平,森崎誠司,藤田悠二,赤澤宗樹,東清一郎 (広大院先端研)
○藤田悠二,林将平,森崎誠司,上倉敬弘,山本将悟,東清一郎 (広大院先端研)
○(B)山本将悟,藤田悠二,林将平,森崎誠司,上倉敬弘,赤澤宗樹,村上秀樹,東清一郎 (広大院先端研)
○森崎誠司,林将平,藤田悠二,東清一郎 (広大院先端研)
○(DC)山崎浩司1,町田絵美1,堀田昌宏1,2,石河泰明1,2,浦岡行治1,2,池上浩3 (奈良先端科学技術大学院大1,戦略的創造研究推進事業2,九大3)
○(B)森岡遼太,葉文昌 (島根大 総合理工)
○叶真一1,竇春萌1,Hadi Mokhammad1,角嶋邦之2,Ahmet Parhat1,片岡好則2,西山彰2,杉井信之2,筒井一生2,名取研二1,服部健雄1,岩井洋1 (東工大フロンティア研1,東工大総理工2)