○(P)簑原誠人1,2,疋田育之1,2,クリストファー ベル1,2,ハロルド ファン1,2 (スタンフォード大1,SLAC国立加速器研究所2)
セッション情報
一般セッション(口頭講演)
06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
[29a-F2-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス
2013年3月29日(金) 10:00 〜 13:00 F2 (E3号館 3F-303)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
○矢嶋赳彬,小池豪,西村知紀,長汐晃輔,鳥海明 (東大院工)
○小池豪,矢嶋赳彬,西村知紀,長汐晃輔,鳥海明 (東大院工)
○(DC)立川卓1,2,簑原誠人2,3,疋田育之2,Christopher Bell2,Harold Hwang2,3 (東大新領域1,SLAC2,スタンフォード大3)
○山田泰裕1,佐藤弘樹2,3,疋田育之3,ハロルド ファン3,4,金光義彦1 (京大化研1,東大2,SLAC3,スタンフォード大4)
○松原雄也1,2,高橋圭2,塚崎敦3,川﨑雅司2,4,十倉好紀2,4 (東北大金研1,理研基幹研CMRG&CERG2,東大新領域3,東大工院4)
○伊藤正人1,2,松原雄也1,2,高橋圭2,小塚裕介3,Jian Ting Ye3,岩佐義宏2,3,川﨑雅司2,3,十倉好紀2,3 (東北大金研1,理研CMRG, CERG2,東大院工3)
○佐野桂治1,新部正人1,小高拓也1,川上烈生2,富永喜久雄2,中野由崇3 (兵庫県立大高度研1,徳島大工2,中部大総工研3)
○新部正人1,佐野桂治1,小高拓也1,川上烈生2,富永喜久雄2,中野由崇3 (兵庫県大高度研1,徳島大院工2,中部大総工研3)
○廣瀬左京1,吉川英樹2,上田茂典2,古田朋大2,安藤陽1,大橋直樹2 (村田製作所1,物質・材料研究機構2)
○大橋直樹1,廣瀬左京1,2,吉川英樹1,上田茂典1,古田朋大1,渡邊賢1,李建永1,坂口勲1 (物・材研1,村田製作所2)