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一般セッション(口頭講演)
16.非晶質・微結晶 » 16.2 プロセス技術・デバイス
[29p-A3-1~6] 16.2 プロセス技術・デバイス
2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:00 A3 (K1号館 2F-201)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
○大跡明1,鈴木恒晴1,朴ジョンヒョク1,2,宮尾正信1,佐道泰造1 (九大・院システム情報1,学振特別研究員2)
○小島祐二1,金井みくり2,山口智明2,磯村雅夫1 (東海大工1,東海大院工2)
○大平圭介1,2,松村英樹1 (北陸先端大1,JSTさきがけ2)
○(M1)佐久間陽1,大平圭介1,2,増田貴史1,3,申仲栄1,2,高岸秀行1,2,Lam Pham1,2,下田達也1,2,3 (北陸先端大1,JST-ALCA2,JST-ERATO3)
○高岸秀行1,3,松木安生2,4,増田貴史1,4,申仲栄1,3,Lam Pham Tien1,3,大平圭介1,3,下田達也1,3,4 (北陸先端大1,JSR2,JST ALCA3,JST ERATO4)
○傍島靖1,2,柿本真之介1,奥本凌二1,佐田千年長1,2,松田彰久1,2,岡本博明1,2 (阪大院基礎工1,JST-CREST2)