[29p-B1-1~20] 7.4 ナノインプリント

2013年3月29日(金) 13:30 〜 18:45 B1 (K2号館 3F-1301)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[29p-B1-1] 選択的エッジリソグラフィによるナノ,ミクロンサイズ混在パターンの作製 (1:30 PM ～ 1:45 PM)

^○野間隼史，阪本隼志，川田博昭，安田雅昭，平井義彦 (大府大工)

^○横尾篤^1,2，ゲディミナスダウデリス¹，福田眞³，納富雅也^1,2 (NTTナノフォトニクスセンタ¹，ＮＴＴ物性研²，弘前大院理工³)

^○銘苅春隆¹，奥山千枝子¹，上野昭久² (産総研¹，ナノクラフトテクノロジーズ²)

^○（B）生田目直季¹，池田弘¹，酒井大輔²，原田建治²，西井準治¹ (北大¹，北見工大²)

^○岡田真¹，西岡江美²，近藤瑞穂²，佐々木友之³，春山雄一¹，小野浩司³，川月喜弘²，松井真二¹ (兵県大高度研¹，兵県大工²，長岡技科大³)

^○若葉瞳^1,2，岡田真^1,2，伊吉就三^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2 (兵庫県立大¹，JST-CREST²)

^○柳下崇^1,2，西尾和之^1,2，益田秀樹^1,2 (首都大都市環境¹，神奈川科学技術アカデミー²)

^○井上直哉¹，譚ゴオン¹，大井秀雄²，三田正弘²，奥田徳路³，松田晃史¹，吉本護¹ (東工大¹，協同インターナショナル²，SCIVAX³)

^○銘苅春隆^1,2，大友明宏^1,3，高木秀樹^1,2，小久保光典^1,3，後藤博史^1,3 (BEANSプロジェクト¹，産総研²，東芝機械³)

^○西野朋季^1,2，藤田萌花¹，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2 (大阪府立大¹，JST-CREST²)

^○銘苅春隆，廣島洋 (産総研)

^○金子周¹，中川勝^1,2 (東北大多元研¹，JST-CREST²)

^○鈴木健太^1,2,3，尹成圓^2,3，王清^2,3，廣島洋^2,3，西岡泰城¹ (日大¹，産総研²，JST-CREST³)

^○伊吉就三^1,2，岡田真^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2，中川勝^2,3，廣島洋^2,4 (兵庫県立大¹，JST-CREST²，東北大³，AIST⁴)

^○（B）大山貴弘^1,3，岡田真^1,3，伊吉就三^1,3，春山雄一^1,3，三宅弘人²，水田智也²，松井真二^1,3 (兵庫県立大¹，ダイセル²，JST-CREST³)

^○塩津隆弘^1,2，西倉直紀^1,2，安田雅昭^1,2，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2 (大阪府立大院工¹，JST-CREST²)

^○多田和広¹，高田英治¹，友廣航平²，藤井一緒¹，増山陽太¹，平井義彦² (富山高専¹，大阪府大院工²)

^○丹保浩行¹，大門貴史²，角田龍則¹，横山義之¹，坂井雄一¹，二口友昭¹ (富山県工技セ¹，北陸電工²)

^○（M1）北川拓哉，川田博昭，平井義彦 (大阪府立大)

^○吉永弘幸¹，栁沢昌輝¹，金子俊光¹，秋山幹²，田嶋未来雄²，庄子大生²，藤井卓也²，小路元¹ (住友電工¹，住友電工デバイスイノベーション²)