[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB1 (第二体育館)

ポスター掲示時間13:30〜15:30(PB会場)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[29p-PB1-1] シリコン窒化膜の常磁性欠陥に対する熱処理の効果 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○（M2）ナウシャドシャクール，石川貢吉，小林清輝 (東海大院)

^○奥友希，志賀俊彦，戸塚政裕，竹見政義 (三菱電機)

^○中島寛記¹，杉崎裕一¹，今西沙織¹，枝元一之¹，松本健俊²，小林光² (立教大理¹，阪大産研²)

^○辻埜太一，堀田將 (北陸先端大)

^○（M1）滝ヶ浦佑介¹，蓮沼隆²，山部紀久夫³ (筑波大電物¹，筑波大電物²，筑波大電物³)

^○（M1）細川貴弘¹，末岡浩治¹，荒木浩司²，泉妻宏治² (岡山県立大¹，グローバルウェーハ社²)

^○立川晋平，中谷友哉，岩崎好孝，上野智雄 (農工大工)

^○門馬久典，蓮沼隆，山部紀久夫 (筑波大　数理物質科学)

^○下田恭平¹，蓮沼隆¹，山部紀久夫¹，右田真司² (筑波大　数理物質科学¹，産総研²)

^○細田修平¹，Tuokedaerhan Kamale¹，角嶋邦之²，Ahmet Parhat¹，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，筒井一生²，名取研二¹，服部健雄¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア¹，東工大総理工²)

^○大嶺洋¹，Zade Darius¹，鈴木佑哉¹，角嶋邦之²，Ahmet Parhat¹，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，筒井一生²，服部健雄¹，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大院総理工²)

^○（M2）張志宇¹，横山正史¹，金相賢¹，市川磨²，長田剛規²，秦雅彦²，竹中充¹，高木信一¹ (東大院工¹，住友化学²)

^○吉田俊幸 (島根大総理工)

^○櫻井拓也¹，沼尻侑也¹，山下晃司¹，ダリュ－シュザデ²，角嶋邦之³，岩井洋²，野平博司¹ (東京都市大工¹，東工大フロンティア研²，東工大総理工³)

^○宮田典幸¹，大竹晃浩²，市川昌和³，安田哲二¹ (産総研¹，物材機構²，東大院工³)

梁池昴生¹，花田毅広¹，石崎博基¹，王谷洋平¹，山本千綾²，山中淳二²，佐藤哲也²，岡本浩³，^○福田幸夫¹ (諏訪東京理科大¹，山梨大²，弘前大³)

花田毅広¹，梁池昂生¹，^○石崎博基¹，王谷洋平¹，山本千綾²，山中淳二²，佐藤哲也²，福田幸夫¹ (諏訪東京理科大¹，山梨大²)

^○Wenfeng Zhang^1,2，西村知紀^1,2，長汐晃輔^1,2，喜多浩之^1,2，鳥海明^1,2 (東大院工¹，JST-CREST²)

^○Wenfeng Zhang^1,2，西村知紀^1,2，長汐晃輔^1,2，喜多浩之^1,2，鳥海明^1,2 (東大院工¹，JST-CREST²)

^○西村知紀^1,2，長汐晃輔^1,2，喜多浩之^1,2，鳥海明^1,2 (東大院工¹，JST-CREST²)