一般セッション(口頭講演)

[28p-A2-1~6] 3.8 光学新領域

2013年3月28日(木) 13:30 〜 15:00 A2 (K1号館 B1-B102)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[28p-A2-1] ｢講演奨励賞受賞記念講演｣（15分）
光渦レーザーアブレーションによって形成された螺旋ナノニードル (1:30 PM ～ 1:45 PM)

^○高橋冬都¹，豊田耕平¹，滝澤隼¹，宮本克彦¹，森田隆二^2,3，尾松孝茂^1,3 (千葉大院融合¹，北大院工²，JST-CREST³)

^○（M1）煮雪亮¹，石川善恵²，越崎直人³，辻剛志⁴，藤原英樹¹，笹木啓司¹ (北大電子研¹，香川大²，産総研³，九大先導研⁴)

^○工藤寛史¹，鈴木良¹，横尾篤^{2, 3}，田邉孝純¹ (慶應大¹，NTTナノフォトニクスセンタ²，NTT物性科学基礎研究所³)

^○鈴木良，加藤拓巳，田邉孝純 (慶應大)

^○柚山健一¹，杉山輝樹²，増原宏¹ (台湾國立交通大應化¹，台湾國研院儀科中心²)

^○佐藤聡，早崎芳夫 (宇都宮大オプティクス教育研究センター)

一般セッション(ポスター講演)

2013年3月29日(金) 09:30 〜 11:30 PA4 (第一体育館)

ポスター掲示時間9:30〜11:30(PA会場)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

^○西村晋平¹，杜靜如²，吉川洋史¹，中林誠一郎¹，柚山健一²，杉山輝樹³，増原宏² (埼玉大理¹，台湾交通大應化²，台湾國研院儀科中心³)

^○Chi-Shiun Wu¹，Ken-ichi Yuyama¹，Teruki Sugiyama²，Hiroshi Masuhara¹ (台湾國立交通大¹，台湾國研院儀科中心²)