2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[27a-F1-1~9] 6.5 表面物理・真空

2013年3月27日(水) 09:30 〜 12:00 F1 (E3号館 1F-102)

[27a-F1-1] 熱酸化と超音速分子線によるSi(113)表面酸化過程の比較検討 (9:30 AM ~ 9:45 AM)

大野真也1,安部壮祐1,兼村瑠威1,三浦脩1,成重卓真1,井上慧1,百瀬辰哉1,吉越章隆2,寺岡有殿2,尾形祥一1,3,安田哲二3,田中正俊1 (横国大工1,原子力機構2,産総研3)

キーワード:シリコン、酸化、超音速分子線