[27p-A3-1~17] 8.4 Plasma etching

[27p-A3-4] Damage and profile prediction on plasma processes using on-wafer monitoring system

^○Tomohiro Kubota¹, Michio Sato², Takuya Iwasaki³, Kohei Ono³, Seiji Samukawa^1,4 (IFS, Tohoku Univ.¹, Harada Corp.², Mizuho R&I, Inst.³, WPI-AIMR, Tohoku Univ.⁴)

Keywords:オンウェハモニタリング、プラズマ照射ダメージ、コンピュータシミュレーション