[27p-A7-1~17] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

[27p-A7-5] 光電子制御プラズマCVDプロセスによるダイヤモンド薄膜合成 (2:30 PM ～ 2:45 PM)

^○川田麻由梨¹，尾白佳大¹，小川修一¹，増澤智昭²，岡野健²，高桑雄二¹ (東北大多元研¹，国際基督教大²)

キーワード：光電子制御プラズマ、ダイヤモンド、負性電子親和力