2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[27p-F1-1~14] 6.5 表面物理・真空

2013年3月27日(水) 13:30 〜 17:15 F1 (E3号館 1F-102)

[27p-F1-7] ナノインデンテーション法によるフレキシブル基板上の酸化珪素薄膜の機械的特性評価 (3:00 PM ~ 3:15 PM)

塩飽義大1,伊與田宗慶1,口山崇2,井上健二2,山本憲治2,望月正人1,関修平1 (阪大院工1,カネカ2)

キーワード:酸化ケイ素、ナノインデンテーション