2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[27p-F2-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年3月27日(水) 13:30 〜 17:30 F2 (E3号館 3F-303)

[27p-F2-13] HfO2-CB-RAM のフィラメント形成における水の役割 (4:45 PM ~ 5:00 PM)

長谷川祥1,木下健太郎1,2,鶴田茂之1,岸田悟1,2,榎本優太郎1 (鳥取大工1,TEDREC2)

キーワード:CB-RAM、リセット電流、HfO2