[27p-F2-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[27p-F2-15] Ti 電極MIMダイオードにおけるSiO_x/TiO₂多重積層の抵抗変化特性評価 (5:15 PM ～ 5:30 PM)

^○（M2）福嶋太紀¹，大田晃生²，牧原克典¹，宮崎誠一¹ (名大工¹，広大先端研²)

キーワード：抵抗変化メモリ、シリコンリッチ酸化膜