2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15.結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[27p-G21-1~18] 15.4 III-V族窒化物結晶

2013年3月27日(水) 13:00 〜 18:00 G21 (B5号館 4F-2405)

[27p-G21-13] △Inサーファクタントによる(0001)GaNのMOVPE成長におけるステップフロー成長の促進 (4:30 PM ~ 4:45 PM)

○(B)逢坂崇1,谷川智之1,2,正直花奈子1,木村健司1,2,岩渕拓也1,花田貴1,2,片山竜二1,2,松岡隆志1,2 (東北大金研1,JST-CREST2)

キーワード:窒化物半導体、サーファクタント、GaN