PDF ダウンロード スケジュール 2 いいね! 0 [28a-G2-6] △プラズマ後窒化SiGe MOS界面の特性評価 (11:15 AM ~ 11:30 AM) ○(M1C)韓在勲1,張睿1,長田剛規2,秦雅彦2,竹中充1,高木信一1 (東大院工1,住友化学2) キーワード:SiGe、ECR、プラズマ後窒化