[28a-G6-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[28a-G6-3] マスクレス描画装置のミニマル化 (10:30 AM ～ 10:45 AM)

^○入田亮一^1,2，三宅賢治^1,2，梅山規男²，ソマワン クアンプン^2,3，原史朗^2,3 (ピーエムティー¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

キーワード：ミニマル、マスクレス、露光