[28a-G6-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[28a-G6-6] Al薄膜の反射特性を利用した到達温度計測 (11:15 AM ～ 11:30 AM)

田口勇¹，三橋雅彦¹，松本伸雄²，^○加藤俊夫²，小田代健³，神埼礼子³ (神奈川県産業技術センター¹，ジ―クエスト²，アセイ工業³)

キーワード：温度測定、半導体プロセス