[28a-G6-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[28a-G6-8] 近赤外半導体レーザ光照射によるPドープSi膜の局所転写と不純物活性化 (11:45 AM ～ 12:00 AM)

^○（M2）小林義崇，酒池耕平，中村将吾，赤澤宗樹，東清一郎 (広大院先端研)

キーワード：転写