[28p-B2-1~13] 7.3 リソグラフィ

[28p-B2-13] △EUVマスクの欠陥特性評価のためのマイクロコヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発 (4:45 PM ～ 5:00 PM)

^○田中祐輔¹，原田哲男¹，渡邊健夫¹，臼井洋一²，木下博雄¹ (兵庫県立大¹，EUVL基盤開発センター²)

キーワード：EUV、CSM、マスク検査