2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:30 G6 (B5号館 1F-2106)

[28p-G6-10] 結晶化誘発層上に堆積した非晶質Si薄膜のパルスレーザー照射による固相結晶化 (4:30 PM ~ 4:45 PM)

望月一秀,Lien Mai,堀田將 (北陸先端大)

キーワード:多結晶Si、結晶化誘発層、固相結晶化、パルスレーザー