[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-12] マイクロ熱プラズマジェット照射高速横方向結晶化におけるa-Si細線及びスリットマスクを用いた結晶位置制御 (5:00 PM ～ 5:15 PM)

^○藤田悠二，林将平，森崎誠司，上倉敬弘，山本将悟，東清一郎 (広大院先端研)

キーワード：結晶化、マイクロ熱プラズマジェット、Siスリットマスク