2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:30 G6 (B5号館 1F-2106)

[28p-G6-13] ナノメートル幅アモルファスシリコン細線を用いたマイクロ熱プラズマジェット照射高速横方向結晶化における結晶成長制御 (5:15 PM ~ 5:30 PM)

○(B)山本将悟,藤田悠二,林将平,森崎誠司,上倉敬弘,赤澤宗樹,村上秀樹,東清一郎 (広大院先端研)

キーワード:マイクロ熱プラズマジェット